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光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設計的革命性解決方案 產(chǎn)品核心優(yōu)勢： 快速固化技術(shù)（FC）：專為 200 nm 以下微細結(jié)構(gòu) 優(yōu)化，即使低強度紫外光源（如 LED）也能實現(xiàn)高效固化，顯著提升生產(chǎn)效率。 Excellence刻蝕穩(wěn)定性：相比標準型號（mr-NIL210），對 SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強，圖案轉(zhuǎn)移精度更高。 PDMS 印章最佳搭

高分辨率：支持 ＜100 nm 結(jié)構(gòu)壓?。ㄈ鏼r-NIL212FC可實現(xiàn)200nm柱陣列）。 量產(chǎn)適配： UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)（R2R）。 T-NIL：熱塑性/熱固性 可選，平衡效率與穩(wěn)定性。 工藝靈活性： 可搭配 LOR 光刻膠實現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離（Lift-off）。 通過 SiPOL 硅含量樹脂實現(xiàn)圖案放大，用于深槽刻蝕。

納米壓印膠 mr-NIL200 系列——專為高精度圖案轉(zhuǎn)移設計的紫外光固化解決方案。自粘附配方，無需底涂，專為硬質(zhì)印章（石英/OrmoStamp®）設計。

mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)（soft UV-NIL）設計的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類軟質(zhì)印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。

公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。

德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。